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主營產(chǎn)品：

半自動晶圓電鍍設備

半自動晶圓電鍍設備

產(chǎn)品時間：2021-04-09 13:12:33

簡要描述：

特點：通道數(shù)量：1~3條生產(chǎn)通道速度：3.0m/min產(chǎn)品規(guī)格：引線框架類料寬10-80mm，片厚0.08-1.5mm，鍍區(qū)精度0.0075mm

詳細介紹

設備系列：SP系列

設備分類：生產(chǎn)型（P）,研發(fā)型（R）

工藝類別：晶圓電鍍

晶圓尺寸：4-12inch

工藝類型：Au, Cu, Ni, Sn, Ag,Pd, Au/Sn alloy ...

工藝應用:RDL, PillarBumpTSV

工藝操作：自動

晶圓類型：Si, GaAs, GaN, InP,SiC, Ceramic, Glass ...

晶圓尺寸:2-12inchf異型片

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